使用私人參考素材進行 Nano Banana 圖片編輯

使用在合理範圍內品質最高的來源，讓重要主體不受遮擋，並大到足以檢查。裁掉瀏覽器控制項、邊框、您不擁有的浮水印，以及可能被解讀為編輯內容一部分的無關物件。如果來源已有理想構圖，請選擇能尊重原構圖的輸出比例。

若需要多張參考圖片，請為各張圖片指定不同角色。一張可定義主體，另一張可定義材質表面，第三張則可定義色彩系統。避免提供多張彼此衝突的身分參考圖片，或數個毫不相關的風格範例。模型需要明確的優先順序，而提示詞應清楚說明該順序。

先說明必須保留的內容，例如產品輪廓、臉部、相機角度、版面、標誌位置或其他受保護屬性。接著說明要求的變更，例如替換背景、調整季節、改變材質、加入可控光線，或將場景轉化為新的媒材。這種結構能在生成前清楚呈現審查標準。

使用「完全相同」之類的說法時請保持謹慎。AI 輸出仍應接受身分特徵與法律要求的審查，且可能保留細微差異。如果精確字體排印或受規範的宣稱十分重要，請安排後續設計檢查，不要假設生成的像素具有權威性。

• 在風格變更之前，先寫明受保護的身分特徵、幾何形狀與構圖要求。
• 將允許的變更描述為範圍明確的編輯，而非籠統要求改善。
• 針對精確文字、宣稱與法律敏感細節進行後續設計審查。

請依最終刊載位置選擇目標長寬比。若輸出比例與來源不同，請告訴 Nano Banana 應如何延展或裁切構圖，以及新增空間應出現在哪裡。選擇下一階段可用的格式，待所有參考檔案與控制項確定後，再索取受保護報價。

模型頁面會從正式環境目錄顯示目前的輸入限制與輸出選項。請使用這些控制項，不要套用其他 Nano Banana 版本的限制。基礎模型、Pro、Nano Banana 2 與 Lite 變體各有獨立轉接器，其名稱在正式環境請求中不可互換。

請先審查保留規則，再判斷風格。比較輪廓、比例、臉部結構、視角、版面與受保護色彩，接著檢查要求的變更是否出現接縫、陰影不一致、反射或透視問題，以及新增物件能否與未變更的主體自然互動。

使用儲存在私人作品庫中的結果作為審查檔案。若某項受保護屬性發生漂移，請強化該規則，不要重寫已成功的風格指示。若來源本身造成歧義，請改善裁切或更換參考素材。如此能建立可追溯的編輯迴圈，而非一再要求模型重新嘗試。

若需要多張參考圖片，請決定哪個來源分別主導身分特徵、構圖、材質、配色與風格。不要假設模型會只依上傳順序推斷優先級。先描述主要來源、說明不可變更的屬性，再解釋每張次要圖片的有限用途。如果兩個參考素材在臉部、產品形狀、相機角度或光線方向上互相衝突，請移除較弱的來源，或明確解釋希望如何處理衝突。

應分別依保留與變更來判斷編輯。先確認受保護的幾何形狀、身分特徵、標誌與構圖是否保留，再評估要求的背景、材質、色彩或氛圍是否確實改變。這種兩階段審查可避免將視覺強烈但破壞原圖的圖片誤認為成功編輯。將核准結果與參考素材角色說明一併保存，日後的變體便能保留已核准結構，而不必重新建構原始意圖。

請使用檢查清單將候選結果與主要來源比較，而非只憑並排觀看的印象。將每項受保護屬性標記為已保留、已變更或不確定。特別注意編輯區域附近的細節；即使主要變更看起來很有說服力，紋理、陰影、標誌與邊緣仍可能發生漂移。

若編輯界線過廣，請修改指示，同時指出允許的變更與必須保持不動的區域。不要不斷加入風格詞彙來解決保留失敗。範圍更窄的轉換與更清楚的參考素材優先順序，通常比更長但缺乏結構的提示詞提供更有用的證據。