使用私密参考素材进行 Nano Banana 图片编辑

在合理范围内使用质量最高的源素材，确保重要主体无遮挡且足够大，便于检查。裁掉浏览器控件、边框、不属于你的水印，以及可能被误解为编辑内容一部分的无关物体。如果源素材已有理想构图，请选择能够尊重该构图的输出比例。

需要多项参考素材时，应为其分配不同作用。一张图片可定义主体，另一张定义材质表面，还有一张定义配色体系。避免提供多张相互冲突的身份图片或多个彼此无关的风格示例。模型需要清晰的层级，而提示词应明确说明这种层级。

先说明必须保持不变的内容，例如产品轮廓、面部、镜头角度、版式、Logo 位置或其他受保护属性。随后说明所需改动，例如替换背景、调整季节、改变材质、加入可控光线，或将场景转换为新的媒介风格。这种结构能在生成前明确审核标准。

谨慎使用“完全相同”等措辞。AI 输出仍需针对身份和法律要求进行审核，也可能保留细微差异。如果精确排版或受监管声明非常重要，应安排后续设计检查，而不能假定生成的像素具有权威性。

• 在风格改动前写明受保护的身份、几何形状和构图要求。
• 将允许的改动描述为有明确边界的编辑，而不是笼统地要求改进。
• 对精确文字、声明和法律敏感细节进行后续设计审核。

根据最终使用位置选择目标宽高比。如果输出比例与源素材不同，应告诉 Nano Banana 如何扩展或裁剪构图，以及新增空间应出现在哪里。选择适合下一阶段的可用格式，然后在所有参考文件和控件最终确定后请求受保护的报价。

模型页面会根据生产 Catalog 显示当前输入限制和输出选项。请使用这些控件，不要根据其他 Nano Banana 版本推断限制。基础模型、Pro、Nano Banana 2 和 Lite 变体使用不同的适配器，其名称在生产请求中不可互换。

先审核保留规则，再判断风格。比较轮廓、比例、面部结构、视角、版式和受保护的颜色。然后检查所需改动是否存在接缝，阴影是否一致，反射和透视是否合理，以及新增物体能否与未改变的主体自然互动。

使用私有作品库中保存的结果作为审核文件。如果只有一项受保护属性发生偏移，应加强该项规则，而不要重写已成功的风格描述。如果歧义源于源素材本身，应改进裁剪或更换参考素材。这样可以形成可追踪的编辑循环，而不是反复要求模型再试一次。

需要多项参考素材时，应先决定哪项来源分别控制身份、构图、材质、色板和风格。不要假定模型会仅凭上传顺序推断这种层级。首先描述主要来源，说明不得改变的属性，再解释每张次要图片的有限作用。如果两项参考素材在人脸、产品形状、镜头角度或光线方向上冲突，应移除较弱的来源，或明确说明希望如何处理冲突。

分别从保留效果和改动效果判断编辑是否成功。首先确认受保护的几何形状、身份、Logo 和构图是否保留，再评估所要求的背景、材质、颜色或氛围是否确实改变。这种两阶段审核可防止把视觉效果强烈但破坏性较大的图片误认为成功编辑。将验收通过的结果与参考素材作用说明一并保存，以便后续变体保留已批准的结构，而无须重新还原最初意图。

使用清单将候选结果与主要源素材进行比较，不要只依赖并排观看的整体印象。将每项受保护属性标记为已保留、已改变或不确定。特别留意编辑区域附近的细节；即使主要改动看起来可信，这些位置的纹理、阴影、Logo 和边缘仍可能发生偏移。

如果编辑边界过宽，应修改指令，同时明确允许的改动和必须保持不变的区域。不要不断增加风格词来解决保真失败。范围更窄的转换和更清晰的参考素材层级，通常比更长但结构松散的提示词更能提供有效证据。